搪玻璃设备的静电点蚀分析
搪玻璃设备主要用于工业领域，使用为广泛的就是反应釜和反应罐类设备，在反应罐等搪玻璃设备工作之后进行清理时经常会发现设备内壁有多微小的凹点，这些大大小小的凹点是什么原因造成的？是物料在反应过程中对玻璃釉质层产生了腐蚀吗？
如果是物料具有腐蚀性，又或者在反应过程中有对玻璃釉质腐蚀作用的物质产生只会造成面积性腐蚀，而并非是大小不一的凹点。所以物料化学性造成的腐蚀基本可以排除。那究竟是什么原因？
经过查阅资料发现，在许多搪玻璃设备中会发生一种名为静电穿刺的效应，会导致釉质出现一个个小凹坑。当设备内部的反应物属于带有悬浮物的液体时，悬浮物会与搪玻璃设备玻璃釉质层内壁发生剧烈摩擦，同时物料自身也在发生摩擦，我们知道摩擦可以带来大量电荷，当这些电荷随着反应的进行越来越多且不断聚集，终于形成了相对高压静电荷，这种静电荷对搪玻璃层产生强烈的穿刺作用，也就是点蚀作用。
这种静电穿刺造成的点蚀对设备的损坏会随着时间的积累逐步加深，如果不及时采取有效地措施，那么搪玻璃设备快就会因高度点蚀而报废。
静电点蚀的原因在于大量静电荷的聚集，而静电荷则是由剧烈摩擦所产生的，所以想要减轻这种点蚀现象简单而又有效地方法就是降低搪玻璃设备搅拌器的搅拌速度，减小摩擦，电荷自然减少，而少量的电荷对搪玻璃层的损害是有限的。
